在半导体行业，双氧水作为一种关键的化学品，大范围的应用于半导体晶体片的清洗、腐蚀以及光刻胶的去除等重要工序。其纯度和浓度的精准控制，必然的联系到集成电路的成品率、电性能及可靠性。因此，对双氧水浓度的准确测定显得很重要。今天，就让我们一起了解一下怎么样去使用CT-1PLUS电位滴定仪来测定双氧水的浓度，为半导体行业的品质把控提供有力支持。
- 仪器配置：CT-1PLUS电位滴定仪，搭配ORP-101C电极和20mL高精度计量管，以及100mL滴定杯。
- 试剂配置：滴定剂选用0.1mol/L的高锰酸钾标准溶液（1/5KMnO₄），溶剂为纯水或1mol/L硫酸溶液，此外还需要少量硫酸锰作为辅助试剂。
1. 样品准备：取适量双氧水样品，置于干燥的烧杯中。然后加入50mL 1mol/L硫酸溶液和0.5克硫酸锰，搅拌使样品充分溶解。硫酸溶液的作用是提供酸性环境，促使双氧水与高锰酸钾发生反应，而硫酸锰则作为催化剂，加速反应进程。
2. 滴定操作：将准备好的烧杯放置在CT-1PLUS电位滴定仪的滴定台上，选择双氧水含量滴定方法。随后，使用高锰酸钾标准溶液进行滴定，直至达到终点。滴定过程中，仪器会根据预设的参数自动控制滴定速度和体积，确保滴定的准确性和重复性。
3. 仪器参数设置：在滴定前，需要对CT-1PLUS电位滴定仪的参数进行精确设置。最小滴定体积为20μL，最大滴定体积为100μL，搅拌速度设定为200，每滴间隔为1000ms，终点模式采用微分阈值判定，微分设置为200。这些参数的合理设置，能够有效提升滴定的精度和效率，确保测试结果的可靠性。
在实际测试中，我们对三份双氧水样品进行了测定，测试环境和温度为23℃，湿度为50%，测试时间为3分钟。以下是测试数据：
从测试数据能够准确的看出，三份样品的双氧水浓度测定结果分别为27.53%、27.53%和27.55%，平均值为27.54%。这表明CT-1PLUS电位滴定仪在测定双氧水浓度时具备极高的准确性和重复性，能够为半导体行业提供较为可靠的双氧水浓度检测数据。
通过以上介绍，我们大家可以看到CT-1PLUS电位滴定仪在双氧水浓度测定方面的卓越表现。其高精度的仪器配置、科学的测定方法和精准的仪器参数设置，共同确保了测试结果的准确性和可靠性。在半导体行业，双氧水浓度的精准控制对于提升产品质量和生产效率至关重要。
